EUVlithography原理

2019年1月25日 — EUV光有兩種常見的產生方式：同步輻射和高能電漿。前者的設備體積太大且太昂貴，所以後者被採用。高強度的雷射(通常是CO2雷射) ...

2020年12月4日 — 微影製程(Lithography) 的本質就是讓光穿透光罩，把設計好的圖案映射在晶圓上面，因此我們會希望光在穿透光罩的過程中不要產生繞射，而讓原本的圖案變形。

2021年2月15日 — EUV 光的產生是用二氧化碳雷射每秒5 萬次去轟擊液態錫滴。出來的EUV 光通過一個直徑為0.65 公尺的橢球反光鏡送進微影機台裡頭。錫滴位於橢球反光 ...

EUV 極紫外光微影技術. ASML是全世界唯一採用極紫外光的微影設備製造商。為了能控制EUV極紫外光光源，並推動EUV微影系統商用化，20多年來，ASML持續投入研發，克服各種 ...

2020年4月22日 — 微影製程即是：用一台微影設備（Lithography），也稱作曝光機，也可以算是一種掃描儀器，將光透過光罩（Mask或Reticle），並利用ASML微影設備的光學系統將 ...

2023年3月10日 — 由於光阻的保護，在進行化學蝕刻時，三角形的氧化矽會留下，最後再將光阻清除，即能完成三角形的轉印。 為了讓大家盡量了解原理，三角形圖案已是個簡化 ...

2020年10月22日 — 此機的概念是由中研院院士林本堅任職於台積電所提出的，原理上當光通過液體介質的時候，其速度會變慢，也就是波長會變短。因此若將被曝光的晶圓浸泡在液體 ...

2021年5月27日 — 紫外光經過光罩後，利用各種光學原理將光束射在晶圓上，就可以在上面刻出精細的電路圖了。我們再把這片晶圓切成一顆顆原始晶片。而因為這項技術牽涉到光的 ...

極紫外光微影（英語：extreme ultraviolet lithography，中國大陸稱為極紫外光刻，簡稱「EUV」或「EUVL」）又稱作超紫外線平版印刷術, 是一種使用極紫外光波長的微影 ...

极紫外光刻（英语：extreme ultraviolet lithography，台湾称为极紫外光微影，简称“EUV”或“EUVL”）又称作超紫外线平版印刷术, 是一种使用极紫外光波长的光刻技术，目前 ...